Titanium doelblok

Onzuiverheden in de vaste stoffen van het titanium doelblok en zuurstof en vocht in de poriën zijn de belangrijkste bronnen van besmetting in de afgezette films. Doelen voor verschillende toepassingen hebben verschillende vereisten voor verschillende onzuiverheidsinhoud. Pure aluminium- en aluminiumlegeringsdoelen voor de halfgeleiderindustrie hebben bijvoorbeeld speciale vereisten voor alkali -metaalinhoud en inhoud van radioactieve elementen.

Om de poriën in de doelwitstoffen te verminderen en de prestaties van gesputterde films te verbeteren, is het doel meestal nodig om een ​​hoge dichtheid te hebben. De dichtheid van het doelwit beïnvloedt niet alleen de sputtersnelheid, maar beïnvloedt ook de elektrische en optische eigenschappen van de film. Hoe hoger de doeldichtheid, hoe beter de prestaties van de film. Bovendien kan het vergroten van de dichtheid en sterkte van het doelwit het doel beter bestand zijn tegen de thermische spanningen van het sputterproces. Dichtheid is ook een van de belangrijkste prestatie -indicatoren van doelmateriaal, korrelgrootte en korrelgrootteverdeling.
Gewoonlijk is het doelwit polykristallijne structuur, de korrelgrootte kan van micron tot millimeter zijn. Voor hetzelfde soort doelwit is de sputtersnelheid van het doelwit met fijne korrels sneller dan die van het doelwit met grove korrels; en de dikteverdeling van de film afgezet door sputteren van het doelwit met een klein verschil in korrelgrootte (uniforme verdeling) is uniformer.